工件内孔内壁磨粒流抛光后粗糙度能达到多少

　　随着工业技术的发展，对于工件内孔内壁的抛光要求也越来越高。通常对于内控内壁抛光，精度要求较高，一般采用磨粒流工艺，就是采用高速流动的磨粒对工件内孔内壁进行研磨，以达到降低表面粗糙度的效果。那么，工件内孔内壁经过磨粒流抛光后，其粗糙度究竟能达到多少呢?

　　磨粒流在抛光没有粗打磨的内孔时，只能选用颗粒度较粗的软性磨料，太细的磨料没办法去除这些深刀纹。但缺点是，颗粒度较粗的磨料没办法达到镜面效果。

　　而经过粗打磨的内壁，则可以使用颗粒度更细的磨料，一次达到镜面效果。

　　经过大量的实践和研究，我们发现磨粒流抛光技术可以有效地降低工件内孔内壁的粗糙度。一般来说，经过磨粒流抛光后，工件内孔内壁的粗糙度可以达到Ra 0.2μm以下。对于一些特殊要求的工件，通过优化抛光参数和技术手段，甚至可以将粗糙度降低到Ra 0.1μm以下。

　　值得注意的是，工件内孔内壁的粗糙度不仅受到抛光技术的影响，还与工件的材料、硬度、孔径大小和孔深等因素有关。因此，在实际应用中，需要根据具体情况进行综合分析和试验，以确定抛光工艺参数和技术方案。

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